電子束蒸發(fā)鍍膜儀以電子束蒸發(fā)方式鍍膜設備，主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜

電子束蒸發(fā)鍍膜儀技術參數(shù)：

產品名稱	電子束蒸發(fā)鍍膜儀
產品型號	TN-EBH500-SS
樣品臺	外形尺寸	<150mm，樣品臺可旋轉
	可調溫度	≦500℃
電子槍	新型電子槍，6孔坩堝
加熱燈	4只鹵素加熱燈用于除氣，1個氖燈用于照明
真空腔體	腔體尺寸	Φ500*H500mm
	觀察窗口	直徑φ100mm
	腔體材質	304不銹鋼
	開啟方式	前開門式
膜厚測量	采用SQM160膜厚儀進行監(jiān)控，涂層厚度不均勻度小于6%。
真空系統(tǒng)	前級泵	雙極旋片泵，氣體抽速1.1L/S
	次級泵	渦輪分子泵,氣體抽速600L/S
	真空測量	復合真空計(電離規(guī)+電阻規(guī))
	系統(tǒng)真空	5×10-5Pa
水冷系統(tǒng)	水壓<2.5bar 水壓監(jiān)測
加熱燈	4只鹵素加熱燈用于除氣，1個氖燈用于照明
電極接口	帶2路金屬蒸發(fā)電極接口
控制系統(tǒng)	CYKY自研專業(yè)級控制器
其他參數(shù)	供電電源	AC380V,50Hz
	整機尺寸	1000mm×800mm×1500mm
	整機功率	20KW
	整機重量	350kg